@InProceedings{AlvesAmEiTrCoMo:2004.:CrDiCV,
author = "Alves, A. R. and Amorim, A. and Eichenberger Neto, J. and
Trava-Airoldi, Vladimir Jesus and Corat, Evaldo Jos{\'e} and
Moro, J. R.",
affiliation = "{Universidade S{\~a}o Francisco (USF)} and {Universidade S{\~a}o
Francisco (USF)} and {Universidade S{\~a}o Francisco (USF)} and
{Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)} and {Instituto
Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)} and {Universidade S{\~a}o
Francisco (USF)}",
title = "Crescimento de diamante CVD em v{\'a}rias etapas",
year = "2004.",
organization = "48° Congresso Brasileiro de Cer{\^a}mica",
keywords = "diamante CVD, crescimento, filmes, v{\'a}rias etapas, grandes
{\'a}reas.",
abstract = "Os progressos no crescimento de diamante CVD t{\^e}m levado os
pesquisadores a deposit{\'a}-lo em {\'a}reas cada vez maiores,
por{\'e}m a espessura do diamante {\'e} limitada {\`a}
espessura do substrato, levando-os a fragmenta{\c{c}}{\~a}o. As
pesquisas apontam que essa fragmenta{\c{c}}{\~a}o se deve ao
{"}stress{"} intr{\'{\i}}nseco e extr{\'{\i}}nseco. O primeiro
causado por defeitos e o segundo por gradientes t{\'e}rmicos.
Objetivando diminuir o {"}stress{"} intr{\'{\i}}nseco, foram
realizados crescimentos de diamante em v{\'a}rias etapas.
Inicialmente, foi crescido um filme por dez horas em um substrato
de sil{\'{\i}}cio, com 76mm de di{\^a}metro e espessura 0,250
mm. A seguir a amostra foi submetida a um tratamento com
solu{\c{c}}{\~a}o saturada de H2SO4 e CrO3 e, e ap{\'o}s em uma
solu{\c{c}}{\~a}o 1:1 de H2O2:NH4OH. As amostras foram
caracterizadas por microscopia eletr{\^o}nica de varredura (MEV)
e espectroscopia Raman, antes e depois do tratamento. Este
processo de crescimento foi repetido at{\'e} a ruptura do
substrato.",
conference-location = "Curitiba - Pr",
conference-year = "28 junho a 1° de julho",
language = "pt",
targetfile = "alves_cresimento.pdf",
urlaccessdate = "08 maio 2024"
}